Россия планирует разработать собственные литографы для печати микросхем – Минпромторг

[ad_1]

В следующем году Минпромторг рассчитывает получить отечественный литограф для изготовления микросхем по технологии 350 нанометров, а к 2026 году – опытный образец литографа для микросхем 130 нанометров, заявил вице-премьер, глава Минпромторга Денис Мантуров на форуме «Микроэлектроника 2023», сообщает «Интерфакс».

«Это пока скромные параметры – 130 нанометров, к чему мы идем в ближайшие годы. Но если мы говорим в комплексе 130 нанометров – это полностью завод под ключ. По каким-то элементам мы уже и в следующем году будем иметь возможность оснащать наши предприятия 90 нанометров и двигаться дальше: 65, 45 38 и дальше», – сказал Мантуров.

К 2030 году планируется заместить около 70% всего оборудования и материалов, используемых в базовых технологических процессах. Параллельно Россия должна занять такую же долю на рынке конечной продукции и практически полностью удовлетворить потребности государственного сектора, сказал Мантуров.

По мере появления отечественных образцов Минпромторг будет корректировать перечень продукции для параллельного импорта, в рамках которого сейчас в РФ ввозится не производящаяся в стране электронная продукция.

В 2024 году государство выделит на поддержку отрасли микроэлектроники 210 миллиардов рублей, в 2023 году из бюджета на это было направлено уже 147 миллиардов рублей, отметил вице-премьер.

По его словам, поддержка прежде всего «нацелена на создание широкой линейки программно-аппаратных решений для всех сфер применения». За девять месяцев нынешнего года реестр электронной продукции пополнился более чем на 70%, сообщил он.

Электронная литография – основная часть технологического процесса изготовления микросхем. Состоит в нанесении пучком электронов «изображения», топологии микросхемы на поверхности полупроводника, который после дальнейшей, тоже чрезвычайно сложной, обработки станет чипом, готовым к использованию в электронных устройствах. В мире считанные единицы – менее десятка – компаний, способных производить современные литографы, в частности, ASDL, Hitachi, Tokyo Electron Ltd.

Технология изготовления микросхем различается по размеру логических элементов схемы, которые способен обеспечить литограф. Чем этот размер меньше, тем выше производительность и ниже энергопотребление. В настоящее время передовые фабрики выпускают чипы по технологии семь и менее нанометров, но и 350-нанометровые кристаллы способны обеспечить технологическую независимость в критически важных областях, в частности, в оборонной промышленности.

[ad_2]

Related Post